软件说明
一、产品概述:
1、INTERCONNECT 是 Ansys Lumerical 的光子集成电路模拟器
INTERCONNECT 是 Lumerical 的光子集成电路模拟器,可验证多模、双向和多通道 PIC。在我们的分层原理图编辑器中创建您的项目,您可以使用我们丰富的原始元素库以及特定于铸造厂的 PDK 元素,在时域或频域中执行分析。
分层原理图编辑器
PIC 元素库
EDA 互操作性
统计分析
2、快速规格
Lumerical INTERCONNECT 包括一组广泛的功能和工作流程,具有广泛的原始元素库以及特定于铸造厂的 PDK 元素。
分层设计
瞬态块分析
混合信号表示
导入紧凑型库模型
GUI 和 Lumerical 脚本
瞬态样本模型模拟器
电子-光子协同仿真
行波激光模型
频域分析
多模式和多通道支持
参数扫描
统计分析
二、产品能力:
使用 Ansys Lumerical INTERCONNECT 验证多模、双向和多通道 PICS
使用 Lumerical INTERCONNECT 体验光子集成电路仿真的深度功能和工作流程。可用的工作流程加快了设计时间并改善了制造成果。INTERCONNECT 包含一个广泛的无源和有源构建模块库,并支持许多具有校准紧凑模型的代工厂 PDK。
三、主要特点:
1、PIC 仿真与设计
借助其分层原理图编辑器,使用 INTERCONNECT 设计和仿真光子集成电路。INTERCONNECT 包括频域分析、瞬态采样模式仿真和瞬态块模式仿真。它包括复杂的可视化和数据分析工具,支持参数扫描和设计优化。
2、EDA 和 PDA 互操作
使用熟悉的 EDA 设计工具和工作流程模拟和优化您的设计,以加快设计时间并提高可靠性。
3、统计分析
执行角点分析以模拟工艺变化对电路性能的影响。执行蒙特卡罗分析,通过考虑工艺变化来评估电路性能和良率
4、PIC 元素库
INTERCONNECT 包含一个广泛的无源和有源光电构建模块标准库,以及支持模拟和分析结果的补充元素。它包括两个库扩展:
用于激光建模的元素库扩展
用于高级系统建模的元素库扩展,包括复杂的光纤、放大器、FEC 编码和均衡模型
5、CML 开发和分发
INTERCONNECT 与 Ansys Lumerical 的设备级工具一起提供了一个基础架构,支持开发和分发用于 PIC 仿真和设计的紧凑模型库 (CML)。通常,CML 是基于实验测量数据和使用 Lumerical 的设备级光子学工具的准确组件级仿真结果的组合而构建的。